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सोडियम सल्फेट चार-प्रभाव वाष्पीकरण

सोडियम सल्फेट चार-प्रभाव वाष्पीकरण

सोडियम सल्फेट चार-प्रभाव वाष्पीकरण का व्यापक रूप से दवा, खाद्य, रसायन, प्रकाश उद्योग और अन्य उद्योगों में पानी या समाधान के वाष्पीकरण और एकाग्रता में उपयोग किया जाता है, और उपरोक्त उद्योगों के अपशिष्ट जल उपचार में व्यापक रूप से उपयोग किया जा सकता है। इसमें उच्च वाष्पीकरण क्षमता, ऊर्जा की बचत और खपत में कमी, और कम परिचालन लागत जैसे कई फायदे हैं।
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चतुर्थांश प्रभाव बाष्पित्र का विवरण

 

सोडियम सल्फेट चार-प्रभाव वाष्पीकरण में, द्वितीयक भाप की अव्यक्त ऊष्मा का पूर्ण उपयोग किया जाता है, जो हीटिंग भाप की उपयोग दर में सुधार करता है। ऑपरेटिंग दबाव के अनुसार, इसे सामान्य दबाव, दबावयुक्त और कम दबाव वाष्पीकरण में विभाजित किया जा सकता है। दबावयुक्त वाष्पीकरण में, प्राप्त द्वितीयक भाप का तापमान अधिक होता है और इसे अगले प्रभाव के लिए हीटिंग भाप के रूप में इस्तेमाल किया जा सकता है। इसलिए, एकल-प्रभाव वाष्पीकरण ज्यादातर वैक्यूम वाष्पीकरण है; बहु-प्रभाव वाष्पीकरण का अगला प्रभाव दबावयुक्त या सामान्य दबाव संचालन है, जबकि पिछला प्रभाव वैक्यूम के तहत संचालित होता है।

 

अधिक आदिम वाष्पीकरण केतली से, यह एकल-प्रभाव, दोहरे-प्रभाव, तिहरे-प्रभाव, चौगुने-प्रभाव या अधिक प्रभाव वाले वाष्पीकरणकर्ताओं में विकसित हो गया है, जिनका उद्देश्य धीरे-धीरे ऊर्जा की खपत को कम करना है।

इस प्रणाली में श्रृंखला में जुड़े चार वाष्पीकरणकर्ता शामिल हैं। यह ऊर्जा की बचत के उद्देश्य को प्राप्त करने के लिए अगले प्रभाव के लिए ऊष्मा स्रोत प्रदान करने के लिए पिछले प्रभाव वाष्पीकरण द्वारा उत्पन्न द्वितीयक भाप का उपयोग करता है।

चार-प्रभाव द्वितीयक भाप के हिस्से को पुनर्प्राप्त कर सकता है। प्रभावों की संख्या जितनी अधिक होगी, उतनी ही अधिक द्वितीयक भाप पुनर्प्राप्त होगी। यह MVR वाष्पीकरणकर्ता से अलग है, जो सभी द्वितीयक भाप को पुनर्प्राप्त कर सकता है।

चार-प्रभाव वाष्पीकरण की प्रक्रिया: डाउनस्ट्रीम, काउंटरकरंट, क्षैतिज प्रवाह, क्रॉस फ्लो आदि हो सकते हैं। ऑपरेशन मोड के अनुसार, इसे निरंतर या आंतरायिक में विभाजित किया जा सकता है। उद्योग में अधिकांश वाष्पीकरण प्रक्रियाएं निरंतर और स्थिर संचालन प्रक्रियाएं हैं।

द्वितीयक भाप के उपयोग के अनुसार, इसे एकल-प्रभाव वाष्पीकरण और बहु-प्रभाव वाष्पीकरण में विभाजित किया जा सकता है। यदि उत्पन्न द्वितीयक भाप का उपयोग नहीं किया जाता है और संघनित्र द्वारा संघनन के बाद सीधे छुट्टी दे दी जाती है, तो इस ऑपरेशन को एकल-प्रभाव वाष्पीकरण कहा जाता है। यदि द्वितीयक भाप को हीटिंग स्टीम के रूप में कम ऑपरेटिंग दबाव वाले दूसरे बाष्पित्र में ले जाया जाता है, और कई बाष्पित्रों का उपयोग श्रृंखला में किया जाता है, तो इस ऑपरेशन को बहु-प्रभाव वाष्पीकरण कहा जाता है।

चार-प्रभाव बाष्पित्र विभिन्न रूपों को अपना सकता है जैसे कि मजबूर परिसंचरण, प्राकृतिक परिसंचरण, गिरती फिल्म, बढ़ती फिल्म, प्लेट बाष्पित्र, आदि, और प्रक्रिया को अनुकूलित करने के लिए विभिन्न संयोजनों को भी अपना सकता है।

 

(1) सामग्री प्रवाह

सांद्रित की जाने वाली सामग्री फीड पंप, फ्लो मीटर, प्लेट हीट एक्सचेंजर, शेल और ट्यूब हीट एक्सचेंजर से होकर प्रथम-प्रभाव विभाजक तक जाती है, और प्रथम-प्रभाव परिसंचरण पंप की क्रिया के तहत हीटिंग के लिए प्रथम-प्रभाव हीटर में प्रवेश करती है। उत्पन्न द्वितीयक भाप और सांद्रित सामग्री ट्यूब बंडल को छोड़ देती है, और अधिकांश सामग्री विभाजक के तल पर बफर पंप में एकत्र की जाती है और दूसरे प्रभाव में पंप की जाती है, और सामग्री का हिस्सा परिसंचरण पंप द्वारा वाष्पित हो जाता है। विभाजक में, भाप और तरल अलग हो जाते हैं, और द्वितीयक भाप विभाजक के शीर्ष से दूसरे प्रभाव हीटर में हीटिंग के लिए निकल जाती है।

सामग्री पहले प्रभाव से दूसरे और तीसरे प्रभाव तक उसी सिद्धांत के अनुसार वाष्पित होती है, और तीन वाष्पीकरण इकाइयों के माध्यम से लगातार वाष्पित होती है; चौथे प्रभाव के लिए मजबूर परिसंचरण का उपयोग किया जाता है। जब सामग्री संतृप्ति तक पहुँच जाती है, तो क्रिस्टल टीडीबी क्रिस्टलाइज़र से गुजरते हैं, और क्रिस्टल को अवक्षेपित किया जाता है और पृथक्करण के लिए विभाजक में प्रवेश करने से पहले ठंडा करने और क्रिस्टलीकरण के लिए क्रिस्टलीकरण टैंक में छुट्टी दे दी जाती है। मदर लिकर को एक मजबूर परिसंचरण पंप द्वारा प्रसारित और वाष्पित किया जाता है।

 

(2) कच्ची भाप, द्वितीयक भाप और संघनित जल प्रक्रिया

उपकरण को गर्म करने के लिए मुख्य ऊर्जा स्रोत कम दबाव वाली कच्ची भाप है। भाप भाप नियंत्रण वाल्व के माध्यम से बाष्पित्र शेल ट्यूब में प्रवेश करती है और सामग्री के साथ गर्मी का आदान-प्रदान करती है। संघनित होने के बाद, यह हीटर शेल के नीचे से दूसरे प्रभाव शेल में प्रवाहित होती है। पहले प्रभाव से वाष्पित द्वितीयक भाप दूसरे प्रभाव शेल को गर्म करने के लिए पहले प्रभाव विभाजक के ऊपर से बाहर आती है और दूसरे प्रभाव हीटर के नीचे से संघनित होती है और पहले प्रभाव संघनित पानी के साथ तीसरे प्रभाव हीटर के नीचे तक मिश्रित होती है। इसी तरह, दूसरे प्रभाव से वाष्पित द्वितीयक भाप को तीसरे प्रभाव द्वारा गर्म किया जाता है, और तीसरे प्रभाव से वाष्पित द्वितीयक भाप को चौथे प्रभाव द्वारा गर्म किया जाता है। संघनन के बाद, इसे पहले, दूसरे और तीसरे प्रभाव के संघनित पानी के साथ चौथे प्रभाव शेल में मिलाया जाता है, और अंत में कंडेनसर में संघनित किया जाता है। पूरे सिस्टम का संघनित पानी पंप किया जाता है। गैस का वह हिस्सा जिसे संघनित नहीं किया जा सकता है उसे उपकरण को वैक्यूम रखने के लिए वैक्यूम पंप द्वारा चूसा जाता है।

 

ENCO की चार-प्रभाव वाष्पीकरण प्रणाली अक्सर ऊर्जा की बचत को प्राप्त करने के लिए संघनित पानी या द्वितीयक भाप गर्मी की वसूली पर विचार करती है। अपशिष्ट जल उपचार में, प्रीहीटर स्केलिंग की स्वचालित ऑनलाइन सफाई पर भी विचार किया जाना चाहिए।

 

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