एकल प्रभाव एमवीआर बाष्पीकरणकर्ता

एकल प्रभाव एमवीआर बाष्पीकरणकर्ता वाष्पीकरण प्रणाली में उत्पन्न द्वितीयक भाप को कंप्रेसर के माध्यम से काम करने, भाप एन्थैल्पी को बढ़ाने, हीटिंग और वाष्पीकरण के लिए प्रसारित करने, सिस्टम में द्वितीयक भाप और संघनित पानी की अपशिष्ट गर्मी का पूरा उपयोग करने और उत्कृष्ट ऊर्जा बचत प्रभाव प्राप्त करने के लिए है। ताज़ा भाप के बिना, 90% से अधिक गाढ़ा पानी, 80% मानव संसाधन और 60% स्थान बचाया जा सकता है।

एमवीआर बाष्पीकरणकर्ता कंप्रेसर द्वारा संपीड़ित माध्यमिक भाप का उपयोग करता है। प्रत्येक घरेलू कंप्रेसर 20 डिग्री तापमान वृद्धि प्रदान कर सकता है, और प्रत्येक आयातित कंप्रेसर 9 डिग्री तापमान वृद्धि प्रदान कर सकता है। इसलिए, इनलेट पानी के लिए बाष्पीकरणकर्ता प्रणाली की आवश्यकता यह है कि ऊर्जा बचाने के वाष्पीकरण के उद्देश्य को प्राप्त करने के लिए क्वथनांक जितना संभव हो 15 डिग्री से कम हो।

एकल -प्रभाव वाष्पीकरण: इसकी कच्ची भाप प्रणाली में केवल एक बार उपयोग की जाती है।

एमवीआर और बहु-प्रभाव बाष्पीकरणकर्ता के बीच अंतर यह है कि द्वितीयक भाप को सिस्टम में प्रसारित किया गया है, इसलिए यह माना जा सकता है कि इसकी ऊर्जा बर्बाद नहीं हुई है।

सिस्टम द्वारा खपत की गई ऊर्जा तापमान को 119 डिग्री से 130 डिग्री तक बढ़ाने के लिए कंप्रेसर द्वारा खपत की गई ऊर्जा है। एमवीआर ऊर्जा बचत इस बात से परिलक्षित होती है कि द्वितीयक भाप को बेकार से उपयोगी बनाने के लिए इसे केवल 16KJ (टन पानी) इनपुट करने की आवश्यकता होती है।

उच्च ताप स्थानांतरण गुणांक:बाष्पीकरणकर्ता की इस संरचना में एक परिवर्तनशील प्रवाह क्षेत्र होता है, जो फ़ीड तरल के लिए एक जोरदार अशांत स्थिति तक पहुंचना बहुत आसान बनाता है, और इसका गर्मी हस्तांतरण गुणांक शेल और ट्यूब प्रकार का 2-3 गुना होता है;

रोकना आसान नहीं:फ़ीड तरल हीट एक्सचेंज सतह पर एक अशांत प्रवाह बनाता है, जो हीट एक्सचेंज सतह को फ्लश कर सकता है, हीट एक्सचेंज सतह से जुड़े स्केल बॉडी को गिरा सकता है, और स्केलिंग चक्र में देरी कर सकता है;

बहुत चिकनी सतह:उपयोग की जाने वाली प्रसंस्करण तकनीक हीट एक्सचेंज सतह की सतह की खुरदरापन को बहुत कम मूल्य पर नियंत्रित करती है, जिससे प्रदूषकों का पालन करना मुश्किल हो जाता है। इस प्रकार के हीट एक्सचेंजर की स्केलिंग दर शेल और ट्यूब हीट एक्सचेंजर की स्केलिंग दर का केवल 1/5 है;

साफ करने और निर्वाह करने में आसान:प्लेट संरचना को अपनाया जाता है, और हीट एक्सचेंज सतह को आसानी से अलग किया जा सकता है, और किसी भी दूषित या क्षतिग्रस्त हीट एक्सचेंज सतह को आसानी से बदला जा सकता है।

लागू:विभिन्न अकार्बनिक लवणों का वाष्पीकरण और क्रिस्टलीकरण, उच्च कठोरता वाले तरल का वाष्पीकरण, कचरा लीचेट का वाष्पीकरण और एकाग्रता, भोजन, किण्वन और दवा उद्योगों में तरल एकाग्रता, और गर्मी के प्रति संवेदनशील सामग्री की एकाग्रता।

एमवीआर बाष्पीकरणकर्ता उत्पाद संरचना:

प्रीहीटर:ज्यादातर मामलों में, वाष्पीकृत किए जाने वाले घोल को बाष्पीकरणकर्ता में प्रवेश करने से पहले पहले से गरम करने की आवश्यकता होती है।

बाष्पीकरणकर्ता:वाष्पित होने वाले घोल को वाष्पीकरण उत्पन्न करने के लिए बाष्पीकरणकर्ता में ताप स्रोत भाप के साथ गर्म किया जाता है। विभिन्न समाधानों के गुणों के अनुसार विभिन्न प्रकार के बाष्पीकरणकर्ताओं का चयन किया जाता है।

विभाजक:भाप और तरल को अलग करने के लिए उपयोग किया जाता है। अलग-अलग विलयनों के गुणों के अनुसार अलग-अलग विभाजकों का चयन किया जा सकता है। आम तौर पर, केन्द्रापसारक विभाजक, गुरुत्वाकर्षण विभाजक या विशेष संरचनाओं वाले विभाजक होते हैं।

विभिन्न पंप:वाष्पित होने वाले घोल और सांद्रित घोल का परिवहन करें। समाधान के विभिन्न गुणों के अनुसार विभिन्न प्रकार के पंपों का चयन किया जाता है। आम तौर पर, केन्द्रापसारक पंप, वॉल्यूमेट्रिक पंप और स्क्रू पंप का उपयोग किया जा सकता है।

कंप्रेसर:द्वितीयक भाप की तापीय एन्थैल्पी को बढ़ाने के लिए द्वितीयक भाप को संपीड़ित करके वाष्पीकरण ताप स्रोत प्रदान करें। विभिन्न प्रवाह दर और संपीड़न अनुपात की आवश्यकताओं के अनुसार विभिन्न प्रकार के कंप्रेसर का चयन किया जा सकता है। बढ़े हुए दबाव के मामले में, मल्टी-स्टेज कम्प्रेसर का उपयोग श्रृंखला में किया जा सकता है।

नियंत्रण प्रणाली:स्वचालित वाष्पीकरण, सफाई, शटडाउन और अन्य कार्यों को प्राप्त करने के लिए मोटर गति, वाल्व, प्रवाह मीटर, तापमान, दबाव नियंत्रण के समायोजन के माध्यम से एमवीआर वाष्पीकरण प्रणाली नियंत्रण केंद्र। स्वचालित अलार्म, क्षति से स्वचालित सुरक्षा प्रणाली, सिस्टम के गतिशील संतुलन को बनाए रखती है।

सफाई व्यवस्था:अलग-अलग समाधान कुछ समय के लिए वाष्पीकरण के बाद स्केलिंग का कारण बन सकते हैं। सामान्यतया, रासायनिक सॉल्वैंट्स मिलाने से 99% से अधिक स्केलिंग हटा दी जाती है। आम तौर पर, सीआईपी इन-सिटू क्लीनिंग या डिसमेंटलिंग क्लीनिंग का उपयोग किया जा सकता है।